| Обозначение | Заглавие на русском языке | Статус | Язык документа | Цена (с НДС 20%)
в рублях |
|
|
Химический анализ поверхности. Оже-электронная спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы, используемые для определения интенсивности пиков, и информация, необходимая для протоколирования результатов
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ огнеупоров, содержащих глинозем, цирконий и кремнезем. Огнеупоры, содержащие от 5% до 45 % ZrO2 (метод, альтернативный методу флуоресценции под Х-лучом). Часть 1. Аппаратура, реактивы и растворение
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ огнеупоров, содержащих глинозем, цирконий и кремнезем. Огнеупоры, содержащие от 5% до 45 % ZrO2 (метод, альтернативный методу флуоресценции под Х-лучом). Часть 2. Влажный химический анализ
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ огнеупоров, содержащих глинозем, цирконий и кремнезем. Огнеупоры, содержащие от 5% до 45 % ZrO2 (метод, альтернативный методу флуоресценции под Х-лучом). Часть 3. Пламенная атомно-абсорбционная спектрофотометрия (FAAS) и атомно-эмиссионная спектрометрия с индуктивно связанной плазмой (ICP -AES)
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Методика определения модуля упругости гибких материалов с использованием атомно-силового микроскопа и двухточечного метода Джонсона-Кендалла-Робертса (JKR)
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхностей. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры и электронные спектрометры Оже. Линейность шкалы интенсивности
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии с вторичными ионами
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод определения коэффициентов распределения кластера аргона при измерении распределения по глубине органических материалов
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Информация, поступающая в близком к реальному времени, из обзорной спектрограммы при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Правила идентификации загрязнения поверхности углеродсодержащими соединениями и внесения поправок на загрязнение
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Измерение бокового и осевого разрешения рамановского микроскопа
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Неразрушающее профилирование глубины наноразмерных тонких пленок оксида тяжелого металла на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Атомно-силовая микроскопия. Руководство по процедуре восстановления изображений атомно-силовой микроскопии, расширенных конечным размером зонда
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки глубины для кремния с помощью многослойных дельта-эталонных материалов
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
22446,00
|
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Повторяемость и постоянство шкалы относительной интенсивности в масс-спектрометрии вторичных ионов
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Оже-электронная спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Анализ металлических нанослоев на подложках на основе железа методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Определение минимальной обнаруживаемости устройства на основе поверхностного плазмонного резонанса
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
|
|
Химический анализ поверхности. Растровая микроскопия. Определение и калибровка разрешения по плоскости оптического микроскопа со сканированием в ближней зоне
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Формат переноса данных для микроскопии со сканирующим зондом
|
Действует |
|
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
| Страницы: ... / 2 / 3 / 4 / 5 / 6 / 7 / 8 / 9 / 10 / 11 |